उच्च निर्वात बहु लक्ष्य मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग प्रणाली

मल्टी-टारगेट स्पटरिंग: यह एक, क्रमबद्ध या सह-स्पटरिंग प्रक्रिया का समर्थन करता है, जिसमें तीन 3-इंच के लक्ष्यों का उपयोग किया जाता है, जो विभिन्न प्रकार की फिल्म जमा करने के लिए उपयुक्त है।

बहुमुखी सामग्री समर्थन: यह अनुसंधान और विकास (आरएंडडी) के लिए धातु, मिश्र धातु, अर्धचालक, सिरेमिक और ढांकता हुआ (dielectric) सामग्रियों के साथ संगत है।

उपयोगकर्ता के अनुकूल नियंत्रण: इसमें पीएलसी (PLC) और टचस्क्रीन एचएमआई (HMI) है, जो अर्ध-स्वचालित संचालन और सहज इंटरफ़ेस प्रदान करता है।

मजबूत सुरक्षा उपाय: इसमें पानी की कमी, ओवरकरंट, वोल्टेज संबंधी त्रुटियों और लॉजिक इंटरलॉक सिस्टम के लिए अलार्म शामिल हैं।

कॉम्पैक्ट डिज़ाइन: एकीकृत होस्ट-नियंत्रण डिज़ाइन स्थान की बचत करता है और उपयोग में आसान है।