टेल क्लीन ट्रैक™ लिथियस सेमीकंडक्टर कोटिंग और विकास प्रणाली सेमीकंडक्टर ट्रैक प्रणाली

हम जेलाटिनाइज मशीनें, इचिंग मशीनें, कोटिंग और डेवलपमेंट सिस्टम या समान कोटिंग और डेवलपमेंट सिस्टम, पतली फिल्म जमाव उपकरण, आयन इम्प्लांटेशन मशीनें, ऑक्सीकरण/डिफ्यूजन/एनीलिंग उपकरण प्रदान कर सकते हैं, जिन्हें हीट ट्रीटमेंट उपकरण भी कहा जाता है।

पैटर्न स्थानांतरण: एक प्रोजेक्टर की तरह, मास्क पर मौजूद सर्किट पैटर्न को प्रकाश के माध्यम से फोटोरेसिस्ट से लेपित सिलिकॉन वेफर की सतह पर प्रक्षेपित किया जाता है। माइक्रोफैब्रिकेशन: पराबैंगनी प्रकाश या एक्सट्रीम पराबैंगनी प्रकाश का उपयोग करके, फोटोरेसिस्ट एक रासायनिक प्रतिक्रिया से गुजरता है, और विकास के बाद, वेफर पर सूक्ष्म नैनो-स्केल की रेखाएं उकेरी जाती हैं।

जेलाटिनाइज मशीन ऑप्टिकल प्रोजेक्शन के सिद्धांत का उपयोग करके सर्किट पैटर्न को छोटा करती है और उन्हें फोटोरेसिस्ट से लेपित सिलिकॉन वेफर पर उजागर करती है। यह चिप निर्माण में एक महत्वपूर्ण उपकरण है। इसका सार प्रकाश स्रोतों, मास्क और सटीक ऑप्टिकल प्रणालियों का उपयोग करके नैनोस्केल ग्राफिक्स का सटीक स्थानांतरण प्राप्त करना है।

डिस्प्ले और सेंसिंग: फ्लैट पैनल डिस्प्ले (एलसीडी/ओएलईडी), टचस्क्रीन सेंसर और एमईएमएस (माइक्रो-इलेक्ट्रोमैकेनिकल सिस्टम) के लिए इलेक्ट्रोड निर्माण।

जेलाटिनाइज मशीन की परिशुद्धता प्रकाश स्रोत की तरंग दैर्ध्य और ऑप्टिकल सिस्टम के न्यूमेरिकल एपर्चर द्वारा सीमित होती है। इसके अलावा, ईयूवी (एक्सट्रीम अल्ट्रावायलेट) प्रकाश स्रोत को टिन की बूंदों पर लेजर के माध्यम से प्लाज्मा उत्पन्न करने की आवश्यकता होती है, जो एक अत्यंत कठिन तकनीकी चुनौती है।